La nanopolvere di pentossido di tantalio  (Ta2O5 HW-T502) è il materiale con proprietà speciali e potenziali applicazioni, possedendo le seguenti caratteristiche:

Piccola dimensione delle particelle : la dimensione delle particelle della nano polvere Ta2O5 è solitamente a livello nanometrico (da decine a centinaia di nanometri), con un'ampia area superficiale specifica e un elevato rapporto superficie/volume specifico, che favorisce le sue prestazioni uniche in varie applicazioni.

Elevata attività superficiale : la nano polvere Ta2O5 ha un'area superficiale più ampia, fornendo superfici più attive che facilitano l'interazione con altre sostanze, ampliando così le sue aree di applicazione.

Stabilità alle alte temperature : Ta2O5 ha un'eccellente stabilità alle alte temperature e resistenza alla corrosione, che può mantenere buone prestazioni e stabilità strutturale in ambienti ad alta temperatura. Rende la nano polvere Ta2O5 ampiamente utilizzata nei processi e nei dispositivi ad alta temperatura.

Prestazioni elettriche : Ta2O5 ha un'elevata costante dielettrica e una bassa perdita dielettrica, che lo rendono un buon potenziale per l'applicazione nei dispositivi elettrici.

Prestazioni ottiche : la nano polvere Ta2O5 ha un elevato indice di rifrazione e trasparenza nelle regioni della luce visibile e ultravioletta, nonché eccellenti caratteristiche di assorbimento ottico e fluorescenza, quindi può essere utilizzata in rivestimenti ottici, dispositivi ottici, sensori ottici e altre applicazioni.

Allo stesso tempo, i target ceramici basati sulla nano polvere Ta2O5 possono essere utilizzati nella deposizione di pellicole, nel rivestimento ottico, nella preparazione di dispositivi optoelettronici e in altri campi. Controllando il processo di preparazione e lavorazione della nano polvere, è possibile ottenere materiali ceramici con elevata purezza, uniformità e controllabilità. Di seguito sono riportate alcune applicazioni della nano polvere Ta2O5 come target ceramici:

Tecnologia dei semiconduttori : Ta2O5 è ampiamente utilizzato nei processi di deposizione di film sottili come la deposizione fisica da fase vapore (PVD) e la deposizione chimica da fase vapore (CVD) nella tecnologia dei semiconduttori. Applicando fasci di particelle ad alta energia o gas di reazione ad alta temperatura al materiale target, l'ossido di tantalio può essere depositato sul substrato per formare pellicole sottili, che hanno buone proprietà dielettriche e funzioni di strato barriera nei dispositivi a semiconduttore.

Rivestimento ottico : grazie al suo eccellente indice di rifrazione e caratteristiche di trasmittanza, l'ossido di tantalio può essere utilizzato nel campo dei rivestimenti ottici. Le pellicole sottili Ta2O5 possono essere utilizzate per preparare dispositivi ottici come specchi, pellicole conduttive trasparenti e filtri ottici.

Celle solari : Ta2O5 può essere utilizzato per preparare strati conduttivi trasparenti nelle celle solari. Depositando film sottili di ossido di tantalio strutturati tramite laser su strati conduttivi trasparenti, è possibile migliorare l'assorbimento della luce e l'efficienza di trasferimento degli elettroni delle celle solari.

Rivestimento antiriflesso : il film sottile Ta2O5 può essere utilizzato per preparare rivestimenti antiriflesso per ridurre la perdita di riflessione della luce sulla superficie dei componenti ottici. Questi rivestimenti sono ampiamente utilizzati in campi quali strumenti ottici, dispositivi ottici e schermi di visualizzazione.

Hongwu Nano fornisce polvere Ta2O5 a 100-150 nm e la dimensione delle particelle può essere regolata. Benvenuti a inviarci una richiesta se siete interessati alla nostra nanopolvere Ta2O5.