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200 nm, polvere nano rame 99,9%, polvere nano cu di alta qualità

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200 nm, polvere nano rame 99,9%, polvere nano cu di alta qualità

200 nm di polveri di rame nano con una purezza del 99,9% si applicano aadditivo per la sinterizzazione.

  • origine del prodotto:

    China
  • oggetto numero.:

    A030
  • porto di spedizione:

    Guangzhou
  • colore:

    Brown black
  • pagamento:

    T/T,PayPal
Dettagli del prodotto

Polveri di rame nano da 200 nm con purezza del 99,9%


1. cas no .: 7440-50-8

2. formula: cu

3. elevata purezza: 99,9%

4. Dimensione delle particelle: 70 nm, 100 nm, 200 nm.

5. aspetto: polvere nera marrone

6. marca: hw nano



applicazione polveri nano rame:

1. additivi medicinali: nuovo additivo specifico per la cura dell'osteoporosi e dell'iperostosi.


2. additivo lubrificante per nanoparticelle: aggiungere olio lubrificante o grasso lubrificante, nel corso dell'attrito formerà un rivestimento autolubrificante e auto-repaente nella frizione superficiale, che ovviamente migliorerà la capacità di antiusura.


3.materiale di auto-repaire di nanopropilene: aggiungere a tutti i tipi di lubrificante per attrito di attrezzature meccaniche in metallo per rendere la parte di usura dell'auto-riparazione del metallo, risparmiare energia e migliorare la vita dell'apparecchiatura e il periodo di manutenzione.


per ulteriori informazioni sul nanopolveri di rame per favore contattami liberamente


hongwu international group ltd, con il marchio hwnano, è un'impresa high-tech incentrata sulla produzione, ricerca, sviluppo e lavorazione di nanoparticelle, nanopolveri, polveri di micron. abbiamo la nostra base di produzione di nanoparticelle, situata a Xuzhou, Jiangsu, che fornisce principalmente nanoparticelle di argento, nanoparticelle di rame, whisker / polveri di carburo di silicio, nanotubi di carbonio, grafene, nanoparticelle di ossido di alluminio, polveri di nitruro di silicio, nanofili di argento e altri nanomateriali quantità per i ricercatori e l'ordine all'ingrosso per i gruppi industriali.

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